【射頻離子源工作原理】：氣體通過一個專門設計的氣體絕緣器進入石英放電室，13.56mhz的射頻功率通過電感耦合進入放電室離化氣體。在產生plasma后、用柵網構成的加速系統將離子引出。初，離子被帶正電的Screen Grid集中、接下來加負電壓的加速柵網將離子束引出。被引出的離子形成離子束，向靶標輻射。離子所帶有的能量是由Screen grid的正電壓和Accelerator grid所加的負電壓大小所決定。離子源設備能促進光電產業升級，在國內也是一項“卡脖子”技術。具有能量高、熱輻射低、工作時間長、對膜層污染小、能量分布均勻性好、適應多種工作氣體的特點。廣東真空鍍膜機廠家。吉林光學薄膜射頻離子源怎么選

【真空鍍膜的膜層結構分布】基材：ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍,要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材;底漆：UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌情加厚;膜層：靶材蒸發的結果，VM膜層可導電，NCVM鍍層不導電，且抗干擾性效果很好,膜層厚度0.3um以下。面漆：面漆利用三基色原理可與色漿搭配出各類顏色,同時對真空膜層起保護作用,再加上UV、PU的表面裝飾,效果更漂亮,厚度一般在8-10um,特殊情況可酌情加厚！離子束刻蝕射頻離子源多少錢真空鍍膜機廠家qian十。

國泰真空GTRF-17/GTRF-23射頻離子源直流源網滅弧采用特殊保護方式，可以在有效的保護網板的時候不停機，不會導致客戶產品報廢。柵網采用獨特的加工工藝，確保柵網之間的曲率和平行度，網孔的中心距也做精密的調整，使得投射出來的離子束更均勻。射頻中和器采用L型接法匹配：匹配速度快，效率高，點火更優。源頭和中和器結構經常拆解部分的內六角進行電鍍及消氣處理，防止拆卸過程卡死，備件及耗品重復利用率高。射頻電源及控制部分單獨裝配在一個電柜內，RF線纜做防輻射和泄漏處理，避免對通訊、控制信號的干擾，同時也做良好的散熱處理。

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結構一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據膜層的導電與否，可分為導電真空鍍膜（VM）和不導電真空鍍膜（NCVM）兩種。VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM：具有金屬質感、透明，但不導電，一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續使用6個月以上，抽的速度會顯然變慢，當操作不當應拆去聯結水管，卸下電爐盤，將一級噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發干以后，裝好泵膽，加入新擴散泵油，并裝回機體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開機。真空鍍膜機參數怎么調？

【真空鍍膜機清洗工藝之氮氣沖洗】氮氣在材料表面吸附時，由于吸附能小，因而吸留表面時間極短.即便吸附在器壁上，也很容易被抽走。利用氮氣的這種性質沖洗真空系統，可以dada縮短系統的抽氣時間。如真空鍍膜機在放入da氣之前，先用干燥氮氣充入真空室沖刷一下再充入da氣，則下一抽氣循環的抽氣時間可縮短近一半，其原因為氮分予的吸附能遠比水氣分子小，在真空下充入氮氣后，氮分子先被真空室壁吸附了。由于吸附位是一定的，先被氮分子占滿了，其吸附的水分子就很少了，因而使抽氣時間縮短了。如果系統被擴散泵油噴濺污染了，還可以利用氮氣沖洗法來清洗被污染的系統.一般是一邊對系統進行烘烤加熱，一邊用氮氣沖洗系統，可將油污染消除。真空鍍膜機詳細鍍膜方法。福建光學薄膜射頻離子源價格

真空鍍膜機的主要用途？吉林光學薄膜射頻離子源怎么選

【真空鍍膜機操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴散泵加熱→開粗抽泵→開預抽閥→關預抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關轟擊→開真空計→當真空到，關粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當真空達到7x10-3pa，開轉架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關閉真空計、離子源→關精抽閥，前置閥→關羅茨泵→開抽氣閥，取件→上料，反復開始操作。特別注意：1.設備停用時，鍍膜室要保持真空狀態，減少內表面氣體的吸附，防止氧化。2.冷卻水通道場下才能對擴散泵進行加熱，未經充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。3.要保證機器內擴散泵和機械泵的油定期檢查和更換。4.設備運行中遇有停電或其它事故發生，須先停擴散泵，關精抽閥，前置閥和真空計。5.產品做完下班后，關了擴散泵后須待溫度降低至60℃后才能關維持泵。吉林光學薄膜射頻離子源怎么選

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